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Reconhecido pela UL e aprovado pela FM.. Um substituto ambiental do Halon 1301 com zero PDO.. Seguro para pessoas e animais.. Limpe e não deixe resíduos.. Eletricamente não condutor e não corrosivo..

Agente Limpo FM200, seu nome técnico é heptafluoropropano e é um halocarbono incolor e inodoro.. FM200 extingue chamas removendo os radicais livres do fogo, interrompendo um elemento do tetraedro do

A Fluorocetona FK 5 1 12 é um supressor de incêndio eficaz contra incêndios de Classe A, B e C. é incolor e tem pouco odor. Não deixa nenhum resíduo, mantendo ao mínimo a interrupção dos negócios.

O agente limpo Fluoroketone FK 5 1 12 é um agente químico projetado para aplicações de supressão de incêndio, oferecendo potencial zero de destruição da camada de ozônio, tornando-o um substituto

O agente limpo Fluoroketone FK5112 não é-condutor e não deixa resíduos, tornando-o seguro para uso em equipamentos elétricos energizados sem causar danos. Esse recurso é especialmente importante em

O agente limpo Fluoroketone FK5112 não é-condutor e não deixa resíduos, tornando-o seguro para uso em equipamentos elétricos energizados sem causar danos. Esse recurso é especialmente importante em

Fluoroketona FK5112 também conhecida como perfluorohexanona, NOVEC 1230. É um novo tipo de agente extintor de incêndio limpo, verde e ecologicamente correto. é um líquido isolante incolor, inodoro,

FK 5 1 12 qualificado pela UL para sistema de extinção de incêndio é um fluido químico incolor, eletricamente não{1}}condutor, conhecido como fluocetona,perfluorohexanona. FK 5 1 12 é uma tecnologia

Na indústria de semicondutores: A mistura de gás octafluoropropano C3F8 e oxigênio é usada como material de gravação de plasma, que reagirá seletivamente com a matriz metálica das pastilhas de

O octafluoropropano (C3F8, também conhecido como perfluoropropano, R218) é um composto perfluorado com boa estabilidade. É um gás incolor em condições normais e possui baixíssima solubilidade em água

O hexafluoreto de enxofre SF6 é um dos gases fluoreto mais comumente usados ​​na gravação a seco de semicondutores. É caracterizado por alta seletividade e forte taxa de ataque. É adequado para

DifluorometanoTambém conhecido como HFC-32/R32, fórmula molecular: CH2F2, como gás de ataque anisotrópico para Si3N4, possui uma seletividade relativamente baixa para SiO2 e Si. Além de ser o