Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd.é um dos principais fabricantes e fornecedores de difluorometano de gás de gravação a seco (R32)|Alta pureza para fabricação de semicondutores na China. Se você está procurando Gás de Gravura a Seco Difluorometano (R32)|Alta pureza para fabricação de semicondutores, fique à vontade para comprar nossos produtos de qualidade a preços competitivos de nossa fábrica. Contate-nos para cotação.
Gás de Gravura a Seco Difluorometano (R32) - Visão Geral do Produto
A gravação a seco, também conhecida como gravação com plasma, usa plasma de alta-energia para remover material da superfície de um wafer. O plasma consiste em íons quimicamente reativos e radicais livres que bombardeiam o wafer, quebrando as ligações moleculares do material e fazendo com que sejam gravadas. As técnicas de ataque a seco incluem ataque com íons reativos (RIE), ataque com plasma e ataque com íons. A gravação a seco permite um melhor controle do processo de gravação, fornece maior resolução e é capaz de gravar estruturas mais complexas
Gás de Gravura a Seco Difluorometano (R32), também conhecido por sua fórmula química CH2F2, é um gás de alta-pureza amplamente utilizado em processos de gravação de semicondutores e gravação de plasma. Este gás de gravação avançado é essencial para a criação de padrões complexos na fabricação de semicondutores, incluindo a gravação de materiais como nitreto de silício (Si3N4), dióxido de silício (SiO2) e outros materiais comumente usados na fabricação de dispositivos semicondutores.
Principais recursos e benefícios, especificações técnicas
Como fornecedor líder de difluorometano (R32), oferecemos fornecimento em massa e preços competitivos, adaptados para atender às necessidades específicas de fábricas de semicondutores e outras aplicações industriais.
Principais recursos e benefícios:
Alta Pureza: Nosso difluorometano (R32) atende aos rigorosos requisitos de pureza da indústria de semicondutores, normalmente na faixa de 99,9% a 99,99%.
Ampla faixa de aplicação: Ideal para uso em processos de gravação a seco e gravação a plasma na fabricação de semicondutores.
Resposta e entrega rápidas: Com o compromisso com a excelência no gerenciamento da cadeia de suprimentos, garantimos prazos de entrega rápidos e entrega confiável.
Embalagem Personalizada: Disponível em cilindros descartáveis, tanques ISO e embalagens a granel para atender às suas necessidades específicas de fornecimento.
Conformidade com os padrões do setor: atende aos padrões regulatórios e de segurança globais, como o Nº da ONU. 3252 (gás inflamável) e a Classe 2.1.
Especificações Técnicas
| Modelo NÃO. | R32 | Aparência | Incolor |
|
Saturação de Hidrocarbonetos Gordos |
Alcano | Fórmula molecular | CH2F2 |
| Peso molecular | 52.02 | Pressão Crítica (MPa) | 5.80 |
| Ponto de ebulição (grau) | -51.70 | Densidade (30 graus) | 0.958 |
| ODP | 0 | Aplicativo | Refrigerante para ar condicionado, refrigerante R32 |
| PAG | 675 | Embalagem | Cilindro descartável /Cilindro recarregável/Tanque ISO |
| Classe nº. | 2.1 | Pureza | 99.9%~99.99% |
| Un Não. | 3252 | Origem | China |
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Aplicações na fabricação de semicondutores
O difluorometano (R32) é amplamente utilizado na indústria de semicondutores, particularmente em aplicações de gravação a seco e gravação a plasma, onde a precisão e a alta pureza são críticas. É uma parte essencial do processo de fabricação de circuitos integrados (ICs), microeletrônica e dispositivos MEMS (micro-sistemas eletromecânicos).
Aplicações típicas:
Gravura de camadas de Si3N4 (nitreto de silício) em dispositivos semicondutores
Gravura plasmática de SiO2 (Dióxido de Silício) para definição de padrões em microeletrônica
Uso em ataque a seco para a criação de filmes finos e microestruturas precisas
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Experiência na indústria
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Tanques ISO(para volumes maiores e aplicações industriais)
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Tempo de espera: Entrega normalmente em 30-40 dias, dependendo da quantidade e do destino.
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Perguntas frequentes (FAQ)
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